ASML (AS:ASML), nhà sản xuất hàng đầu về hệ thống quang khắc để sản xuất chất bán dẫn, đã giới thiệu cải tiến mới nhất của mình, máy "High NA EUV" trị giá 350 triệu đô la, vào thứ Sáu tại trụ sở chính ở Veldhoven, Hà Lan. Công cụ mới này, kích thước của một chiếc xe buýt hai tầng, sẵn sàng đóng vai trò trung tâm trong việc duy trì sự thống trị của ASML trên thị trường trị giá 125 tỷ USD.
Máy "High NA EUV", được thiết kế đặc biệt cho các nhà sản xuất chất bán dẫn hàng đầu như Intel, lần đầu tiên được giới thiệu. ASML đang chuẩn bị sản xuất và xuất xưởng một số đơn vị này trong năm, mặc dù con số chính xác vẫn chưa được chỉ định. Công ty nhấn mạnh rằng có công việc đang diễn ra về tùy chỉnh và lắp đặt cho thiết bị mới.
Monique Mols, người phát ngôn của ASML, nhấn mạnh sự phức tạp của việc tích hợp máy mới vào hệ thống sản xuất. "Chúng tôi tiếp tục kỹ thuật và phát triển, và có rất nhiều việc phải làm để hiệu chỉnh nó và đảm bảo nó phù hợp với hệ thống sản xuất", cô nói. "Ngoài ra còn có một đường cong học tập dốc cho chúng tôi và khách hàng của chúng tôi."
Công nghệ của ASML là duy nhất trên thị trường, vì đây là nhà sản xuất duy nhất các máy quang khắc cực tím (EUV), rất cần thiết để tạo ra các chip tiên tiến nhất. "High NA EUV" đại diện cho thế hệ tiếp theo của công nghệ này. Tuy nhiên, tỷ lệ chấp nhận của khách hàng vẫn chưa chắc chắn do chi phí cao liên quan đến các thiết bị này.
Jeff Koch từ Semianalysis chỉ ra rằng trong khi một số nhà sản xuất chip có thể bắt đầu sử dụng công nghệ mới để đạt được lợi thế cạnh tranh, phần lớn dự kiến sẽ đợi cho đến khi nó trở nên khả thi về mặt kinh tế. Ông dự đoán rằng quá trình chuyển đổi từ công nghệ cũ sẽ trở nên hiệu quả về chi phí vào khoảng năm 2030-2031. Theo phân tích của ông, điều này có thể dẫn đến dư thừa công suất cho ASML giữa việc tăng cường nhà máy vào năm 2027-2028 và việc áp dụng rộng rãi trong những năm tiếp theo.
Giám đốc điều hành của ASML, Peter Wennink, trước đây đã tuyên bố rằng ngành công nghiệp có thể đang đánh giá thấp tiềm năng của công nghệ "High NA EUV". "Tất cả mọi thứ mà chúng tôi hiện đang thấy trong cuộc thảo luận với khách hàng của chúng tôi là High NA rẻ hơn", Wennink nói vào tháng Giêng.
Greet Storms, người đứng đầu quản lý sản phẩm High NA của ASML, chỉ ra rằng một sự thay đổi đáng kể dự kiến vào khoảng năm 2026-2027 khi khách hàng có khả năng bắt đầu sản xuất số lượng lớn với công cụ mới. Intel đã nhận được một thiết bị thí điểm và có kế hoạch bắt đầu sản xuất vào năm tới, mặc dù quy mô hoạt động chưa được tiết lộ. TSMC và Samsung cũng đã bày tỏ ý định sử dụng công cụ này nhưng chưa cung cấp mốc thời gian cụ thể.
Đến nay, ASML đã nhận được từ 10 đến 20 đơn đặt hàng, bao gồm các thiết bị thí điểm cho các chuyên gia bộ nhớ SK Hynix và Micron. Công ty đang xây dựng năng lực để cung cấp tới 20 chiếc mỗi năm vào năm 2028. Đáng chú ý, không có máy móc tiên tiến nào trong số này sẽ được bán cho Trung Quốc, thị trường lớn thứ hai của ASML vào năm ngoái, do nỗ lực của Hoa Kỳ nhằm hạn chế xuất khẩu công nghệ tiên tiến sang nước này.
Bất chấp những lo ngại về hạn chế bán hàng sang Trung Quốc, ASML đã báo cáo một sổ đặt hàng mạnh mẽ vào tháng trước, giúp giảm bớt lo lắng của nhà đầu tư. Việc áp dụng nhanh chóng máy "High NA EUV" có thể nâng cao doanh số và lợi nhuận của ASML, củng cố thêm vị trí dẫn đầu thị trường trong các hệ thống in thạch bản. Các hệ thống này rất quan trọng để truy tìm các mẫu trên các tấm silicon trở thành mạch của chip máy tính.
ASML tuyên bố rằng công cụ mới sẽ cho phép các nhà sản xuất chip giảm kích thước của các tính năng chip nhỏ nhất tới 40%, có khả năng tăng gấp ba lần mật độ bóng bán dẫn. Công ty cạnh tranh với Nikon và Canon để sản xuất máy in thạch bản cho chip thế hệ cũ, nhưng nó có vị trí độc đáo là công ty đầu tiên và duy nhất đưa ra thị trường công cụ in thạch bản EUV.
Máy "High NA EUV" hoạt động bằng cách tạo ra ánh sáng EUV thông qua sự bốc hơi của các giọt thiếc bằng cách sử dụng các xung laser kép với tốc độ đáng kinh ngạc 50.000 lần mỗi giây. Thay đổi đáng kể nhất trong máy mới là hệ thống quang học lớn hơn, bao gồm các gương có hình dạng phức tạp do Carl Zeiss sản xuất. Những chiếc gương này, được đánh bóng đến một mức độ cực kỳ mịn màng và được đặt trong chân không, thu thập và tập trung nhiều ánh sáng hơn so với người tiền nhiệm của chúng. Thuật ngữ "NA cao" dùng để chỉ khẩu độ số cao, mà ASML tuyên bố dẫn đến độ phân giải được cải thiện.
Reuters đã đóng góp cho bài viết này.Bài viết này được tạo và dịch với sự hỗ trợ của AI và đã được biên tập viên xem xét. Để biết thêm thông tin, hãy xem Điều Kiện & Điều Khoản của chúng tôi.