ASML (AS:ASML), nhà sản xuất thiết bị bán dẫn hàng đầu của Hà Lan, đã đạt được một cột mốc quan trọng được gọi là "ánh sáng đầu tiên" với hệ thống in thạch bản EUV cao NA sáng tạo. Thành tích này, được công bố vào thứ Tư, cho thấy hệ thống mới đang hoạt động, mặc dù nó vẫn chưa hoạt động hết công suất.
Sự phát triển ban đầu được chia sẻ bởi Ann Kelleher, người đứng đầu phát triển công nghệ tại Intel, trong một bài thuyết trình tại hội nghị in thạch bản SPIE được tổ chức tại San Jose vào thứ ba. Sau cuộc nói chuyện của Kelleher, ASML đã xác nhận tính chính xác của các tuyên bố của cô ấy về tiến trình của công cụ EUV NA cao của họ.
Hệ thống in thạch bản EUV NA cao là một tiến bộ rất được mong đợi trong công nghệ sản xuất chất bán dẫn, vì nó dự kiến sẽ cho phép sản xuất các chip nhỏ hơn, mạnh hơn. Thuật ngữ "ánh sáng đầu tiên" đề cập đến việc chiếu thành công hình ảnh đầu tiên bằng công cụ, một bước quan trọng trong việc xác nhận chức năng của hệ thống.
Xác nhận của ASML về việc đạt đến giai đoạn này đánh dấu một thời điểm quan trọng trong sự phát triển của hệ thống EUV NA cao, đưa nó đến gần hơn với việc sử dụng sản xuất toàn diện cuối cùng.
Bài viết này được tạo và dịch với sự hỗ trợ của AI và đã được biên tập viên xem xét. Để biết thêm thông tin, hãy xem Điều Kiện & Điều Khoản của chúng tôi.